濺射蒸碳儀 型號(hào):YBT3-ETD-2000C

原理：
濺射功能依據(jù)二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調(diào)整控制器、微型真空氣閥在工作時(shí)結(jié)
合內(nèi)部自動(dòng)控制電路控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體。根據(jù)電場(chǎng)中
氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶，使濺射鍍層均勻純|凈。
熱蒸發(fā)功是能通過對(duì)碳纖維繩加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積與基體或工件表面并形成薄膜
或涂層的工藝。

濺射蒸碳儀 型號(hào):YBT3-ETD-2000C

參數(shù)：
? 儀器尺寸 ：305mm×400mm×390mm（W×D×H）
? 真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
? 靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）
? 濺射靶材：Au
? 濺射靶材大小：φ 50mm
? 樣品臺(tái)：50mm (D)
? 濺射工作電壓：0-1600V (DC)可調(diào)
? 濺射電流：0-50mA
? 濺射定時(shí)：0-360S
? 蒸碳電流 0-100A(AC)
? 蒸發(fā)材料：碳纖維
? 蒸發(fā)工作電壓：0-30V
? 蒸發(fā)時(shí)間：0-1S
? 微型真空氣閥：可連接φ 3mm 軟管
? 可通入氣體： 多種
? 真空泵： 2 升機(jī)械旋轉(zhuǎn)泵（國產(chǎn) VRD-8）
用途：
適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。
特點(diǎn)：
1、簡(jiǎn)單、。
2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
4、真空保護(hù)可避免真空過低造成設(shè)備短路。
5、同時(shí)可以通過換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達(dá)到geng細(xì)顆粒的涂層。
6、通過通入不同的惰性氣體以達(dá)到純凈的涂層。
7、數(shù)字計(jì)時(shí)器定時(shí)方便。
8、計(jì)時(shí)器可隨時(shí)停止，觀察樣品涂層，并可繼續(xù)工作。
9、可調(diào)節(jié)樣品臺(tái)，適用于多種樣品。
10、一體機(jī)。
11、碳纖維繩細(xì)膩均勻、快速，有利于分析材料結(jié)構(gòu)。
12、濺射蒸發(fā)功能一鍵切換，蒸碳附件安裝方便快|捷。